东北大学学报（自然科学版）

东北大学学报(自然科学版) ›› 2000, Vol. 21 ›› Issue (5): 539-542.DOI: -

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电沉积Ni-S合金析氢阴极的研究

韩庆;魏绪钧   

  1. 东北大学材料与冶金学院!辽宁沈阳110006;东北大学材料与冶金学院!辽宁沈阳110006
  • 收稿日期:2000-10-15 修回日期:2000-10-15 出版日期:2000-05-15 发布日期:2014-10-29
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  • 基金资助:
    国家自然科学基金资助项目!(59874011)

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  • Received:2000-10-15 Revised:2000-10-15 Online:2000-05-15 Published:2014-10-29
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摘要： 以硫脲作为硫源,在瓦特浴体系中通过电沉积方法获得NiS合金电极·系统地讨论了电沉积过程中各工艺条件(硫脲浓度、电流密度、pH值及温度)对镀层中S含量的影响,确定了硫脲浓度和电流密度为NiS合金镀层中S含量的主要影响因素;以恒电流极化方法测试不同S含量的合金电极的析氢过电位,得到了析氢过电位仅为90mV的非晶态NiS合金析氢阴极;以稳态极化方法测定该电极的稳态极化曲线,并通过计算得出其电化学参数(b,i0)·结果表明,该电极具有极高的电化学活性·

关键词: 电沉积, Ni-S合金, 析氢阴极

Abstract: -

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