东北大学学报:自然科学版 ›› 1991, Vol. 12 ›› Issue (2): 118-123.DOI: -

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离子束强化在镀氮化钛薄膜中的应用

崔永植   

  1. 东北工学院表面加工技术研究所
  • 收稿日期:1991-05-01 修回日期:1991-05-01 出版日期:1991-03-15 发布日期:2015-09-06
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  • Received:1991-05-01 Revised:1991-05-01 Online:1991-03-15 Published:2015-09-06
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摘要: 系统地进行了离子束强化真空沉积镀、射频离子镀和离子束强化射频离子镀3种镀TiN薄膜的实验,并对不同方法制备的TiN薄膜进行了性能测试与组织结构分析。研究结果表明,离子束强化不仅有提高沉积速率,细化晶粒,促进晶体择优取向的作用,而且可改善薄膜的附着力与耐磨性。因此可推荐用于提高耐磨性为目的的TiN镀膜生产上。

关键词: 离子束强化, 真空沉积镀, 射频离子镀

Abstract: -

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