东北大学学报:自然科学版 ›› 1985, Vol. 6 ›› Issue (1): 1-14+149.DOI: -

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氧化钙部分稳定的氧化锆陶瓷渗氧机理的研究

窦士学;C.R.Masson;P.D.Pacey   

  1. 东北工学院;加拿大国家科学委员会大西洋研究实验室;达尔豪斯大学化学系
  • 收稿日期:1985-03-02 修回日期:1985-03-02 出版日期:1985-01-15 发布日期:2015-09-06
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  • Received:1985-03-02 Revised:1985-03-02 Online:1985-01-15 Published:2015-09-06
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摘要: 本文采用渗氧池的方法研究了氧化钙-氧化锆陶瓷在960—1450℃的温度范围内的渗氧性,渗氧池一侧的氧分压(P′o_2)为10~(-3)~1大气压,另一侧的氧分压(P″o_2)为10~(-0)~10~(-4)大气压,单位时间单位面积渗氧量与(P′o_2~(1/n)-P″o_2~(1/n))成正比,其中指数项中的n值依赖于样品的微观结构和厚度,所导出的由内部扩散及表面反应混合控制的机理与实验结果一致,从而满意地解释了渗氧性对氧压依赖关系的特异规律,内部扩散及表面反应的活化能相近,约为200kJ/mol。

关键词: 电解质, 扩散, 动力学, 质量传递

Abstract: -

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