摘要： 较系统地研究了射频离子镀氮化钛工艺。分析了各参数之间的制约关系,提出了合理控制工艺参数的方法。研究结果表明,射频离子镀的成膜速度随炉内压力的减小而加快,电子枪功率的加大将提高了离子束电流强度,基板与蒸发源距离的加大将降低成膜速度;粒子的入射角度在45°—135°为宜。但成膜速度与射频起振器功率、基板的负偏压无关。要想提高离子的密度,必须加大电子枪功率,同时要增大射频的起振动率。
中图分类号:
崔永植. 射频离子镀氮化钛的实验研究[J]. 东北大学学报:自然科学版, 1989, 10(6): 622-626.
-. -[J]. Journal of Northeastern University:Natural Science, 1989, 10(6): 622-626.
