东北大学学报:自然科学版 ›› 1991, Vol. 12 ›› Issue (4): 342-347.DOI: -

• 论著 • 上一篇    下一篇

铝在NaCl-AlCl_3熔体中的电化学沉积

李庆峰;邱竹贤;BjerrumN.J.   

  1. 东北工学院;东北工学院;丹麦技术大学博士研究生;博士生导师;博士生导师
  • 收稿日期:1991-08-29 修回日期:1991-08-29 出版日期:1991-07-15 发布日期:2015-09-06
  • 通讯作者: -
  • 作者简介:-
  • 基金资助:
    -

-

-   

  1. -
  • Received:1991-08-29 Revised:1991-08-29 Online:1991-07-15 Published:2015-09-06
  • Contact: -
  • About author:-
  • Supported by:
    -

摘要: 采用伏安扫描法、计时电流法和恒电流沉积法研究了铝在NaAlCl_4熔体中的电化学沉积过程。铝的电化学还原反应涉及一个成核/生长机理,且成核过程是渐进的。沉积铝的形状取决于电流密度。只有当电流密度为2—10mA/cm~2时,沉积铝才是规则平整的。在高电流密度下(>15mA/cm~2),由于含铝离子的扩散缓慢,沉积铝是枝晶状或蓬松状的。在低电流密度下(<0.7mA/cm~2),由于电成核过程的控制作用,沉积铝呈棉絮状。

关键词: 铝, 电化学沉积, 氯化钠—氯化铝熔体, 电成核, 枝晶

Abstract: -

中图分类号: