东北大学学报:自然科学版 ›› 1980, Vol. 1 ›› Issue (1): 31-38+156.DOI: -

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硅氮化反应的平衡及动力学研究

隋智通   

  1. 东北工学院冶金物理化学教研室
  • 收稿日期:1980-03-01 修回日期:1980-03-01 出版日期:1980-01-15 发布日期:2015-09-06
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  • Received:1980-03-01 Revised:1980-03-01 Online:1980-01-15 Published:2015-09-06
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摘要: 根据Si—N—O三元系热力学的计算,讨论在混合气体N_2-H_2-H_2O产中生成氮化硅的条件及氧对氮化过程的影响。用光学显微镜、扫描电子探针和x射线衍射分析方法检验氮化硅试样的显微组织,确定为:α-Si_3N_4,β-Si_3N_4,残余硅和孔隙。采用热重分析方法研究1603-1675K范围的混合气体N_2-H_2-H_2O(P_(N_2)=8×10~(-1)atm,P_(H_2)=2×10~(-1)atm,P_(H_2O)=2×10~(-7)atm)中硅氮化反应的动力学。认为:氮化过程的限速步骤是氮气通过在硅表面上的氮化物壳层的扩散,并提出一种解释扩散机理的模型。计算得扩散活化能为...

关键词: 限速步骤, 光学显微镜, 动力学规律, 热重分析, 壳层, 硅表面, 注浆成型, 电子探针, 抗热震, 氮气压力

Abstract: -

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