东北大学学报(自然科学版) ›› 2009, Vol. 30 ›› Issue (3): 392-395.DOI: -
单玉桥;党鹏;于晓中;单连中;
Shan, Yu-Qiao (1); Dang, Peng (1); Yu, Xiao-Zhong (1); Shan, Lian-Zhong (1)
摘要: 用真空蒸发法制备了CdS薄膜,用扫描电镜、X射线衍射仪、紫外-可见光分光光度计、四探针对薄膜的形貌、结构、光电性能进行分析测试.研究结果表明,不同基片温度下所制备的CdS薄膜主要为六方相,CdS薄膜在(002)晶面有高度的择优取向;不同基片温度下的薄膜对可见光的透光率都超过70%;薄膜的电阻率随基片温度的升高而增大;基片温度为50℃时薄膜的Eg为2.41 eV;在200℃退火处理改善了CdS薄膜的质量,结晶度提高,电阻率降低,晶粒尺寸增大;基片温度为50℃时薄膜在200℃退火后的电阻率为255Ω.cm.
中图分类号: