东北大学学报（自然科学版）

东北大学学报(自然科学版) ›› 1999, Vol. 20 ›› Issue (4): 405-407.DOI: -

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CVD法制取Fe-6-5%Si薄板的扩散工艺计算机模拟

胡广勇;武保林;王刚;王轶农;左良;C.Esling   

  1. 东北大学材料与冶金学院!沈阳110006;东北大学材料与冶金学院!沈阳110006;东北大学材料与冶金学院!沈阳110006;东北大学材料与冶金学院!沈阳110006;东北大学材料与冶金学院!沈阳110006;UniversityofMetz;France
  • 收稿日期:1999-08-15 修回日期:1999-08-15 出版日期:1999-04-15 发布日期:2014-10-29
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    国家自然科学基金;辽宁省优秀青年科研人才培养基金

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  • Received:1999-08-15 Revised:1999-08-15 Online:1999-04-15 Published:2014-10-29
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摘要： 在分析ＣＶＤ法渗Ｓｉ制备Ｆｅ６５％Ｓｉ合金薄板的实际工艺要求基础上,择定了母材的Ｓｉ含量、扩散温度及气氛浓度·利用计算机模拟研究了在所确定条件下对一定厚度样品实施单步扩散和两步扩散的最佳处理工艺·模拟计算结果与实验符合较好·

关键词: Fe-6-5%Si, CVD法, 扩散, 计算机模拟

Abstract: -

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