东北大学学报（自然科学版）

东北大学学报:自然科学版 ›› 1983, Vol. 4 ›› Issue (3): 21-30+104.DOI: -

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内氧化型渗碳(CD渗碳)的应用及机理

郝士明   

  1. 东北工学院金属材料系金属学教研室
  • 收稿日期:1983-06-30 修回日期:1983-06-30 出版日期:1983-07-15 发布日期:2015-09-06
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  • Received:1983-06-30 Revised:1983-06-30 Online:1983-07-15 Published:2015-09-06
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摘要： 钢的内氧化型渗碳(CD渗碳)的机理和动力学类似于合佥的内氧化反应。本文着重介绍了铁素体和奥氏体基体的CD渗碳,以及δ-珠光体的形成反应,指出,这些反应均为由碳的体积扩散所控制的过程。文中还讨论了应用等活度线求渗碳层表面最高碳浓度的方法。而且以奥氏体基体的渗碳为例,说明了CD渗碳层的组织和性能特点,以及在工业生产上的实际意义。

关键词: 渗碳层, CD, 奥氏体基体, 氧化型, 等活度线, 体积扩散, 珠光体组织, 碳浓度, 氧化反应, 真空渗碳

Abstract: -

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